半導體
- 半導體適用產品
1、RTP（快速退火爐）：紅外加熱燈是RTP的核心加熱元件。
2、EPI（外延設備）：紅外加熱燈是EPI的核心溫控組件，紅外加熱燈可用于快速升溫和精確控溫，保障外延層高質量生長。
3、CVD：紅外加熱燈在這里主要用于提供快速、均勻的加熱，保障反應氣體在基片表面正確分解和沉積。
4、濕法刻蝕：濕法刻蝕過程中，溫度會影響反應速率和刻蝕均勻性，紅外加熱燈可能用于精確控制溶液或基板的溫度。
5、清洗熱水機：紅外加熱燈為清洗熱水機提供高效精準加熱，加速水垢分解與清潔效果，非接觸加熱避免電極腐蝕，延長設備壽命。
6、清洗酸加熱：紅外加熱燈加速酸液反應，提升清洗效率與均勻性。
